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International Journal Of Optomechatronics是工程技术领域的一本优秀期刊。由Taylor and Francis Ltd.出版社出版。该期刊主要发表工程技术领域的原创性研究成果。创刊于2007年，该期刊主要刊载工程技术-工程：电子与电气及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展，更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准，确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外，该刊同时被SCIE数据库收录，并被划分为中科院SCI3区期刊，它始终坚持创新，不断专注于发布高度有价值的研究成果，不断推动工程技术领域的进步。
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| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 3区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：机械 OPTICS 光学 | 3区 3区 3区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 3区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：机械 OPTICS 光学 | 3区 3区 3区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：机械 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：机械 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：机械 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 ENGINEERING, MECHANICAL 工程：机械 OPTICS 光学 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q1 | 38 / 352 |
89.3% |
| 学科：ENGINEERING, MECHANICAL | SCIE | Q1 | 7 / 180 |
96.4% |
| 学科：OPTICS | SCIE | Q1 | 12 / 119 |
90.3% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q1 | 60 / 354 |
83.19% |
| 学科：ENGINEERING, MECHANICAL | SCIE | Q1 | 18 / 180 |
90.28% |
| 学科：OPTICS | SCIE | Q1 | 19 / 120 |
84.58% |
| 学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 大类：Physics and Astronomy 小类：Instrumentation | Q1 | 11 / 141 |
92% |
| 大类：Physics and Astronomy 小类：Mechanical Engineering | Q1 | 57 / 672 |
91% |
| 大类：Physics and Astronomy 小类：Electrical and Electronic Engineering | Q1 | 108 / 797 |
86% |
| 年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
| 年发文量 | 28 | 20 | 14 | 5 | 6 | 4 | 8 | 11 | 4 | 12 |
| 国家/地区 | 数量 |
| CHINA MAINLAND | 11 |
| Taiwan | 3 |
| USA | 2 |
| Canada | 1 |
| France | 1 |
| GERMANY (FED REP GER) | 1 |
| Italy | 1 |
| Netherlands | 1 |
| Philippines | 1 |
| Switzerland | 1 |
| 机构 | 数量 |
| BEIJING INFORMATION SCIENCE & TECHNOLOGY UNIVERSITY | 2 |
| CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 2 |
| NATIONAL CHUNG HSING UNIVERSITY | 2 |
| SHANGHAI UNIVERSITY | 2 |
| BEIJING INFORMAT SCI & TECHNOL | 1 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) | 1 |
| CHANGCHUN UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY | 1 |
| CHUNG SHAN MEDICAL UNIVERSITY | 1 |
| CHUNG YUAN CHRISTIAN UNIVERSITY | 1 |
| COLORADO SCHOOL OF MINES | 1 |
| 文章名称 | 引用次数 |
| Modeling and evaluation of magnetic fluid deformable mirror with dual-layer actuators | 5 |
| High-resolution optical inspection system for fast detection and classification of surface defects | 4 |
| Silk fibroin and ultra-long silver nanowire based transparent, flexible and conductive composite film and its Temperature-Dependent resistance | 3 |
| Wavelength switchable and stable single-longitudinal-mode erbium-doped fiber laser based on Mach-Zehnder interferometer and tunable filter | 2 |
| Fabrication of 3D nano-hemispherical cavity array plasmonic substrate for SERS applications | 2 |
| Laser-dilatometer calibration using a single-crystal silicon sample | 1 |
| Rigorous simulation of nonlinear optomechanical coupling in micro- and nano-structured resonant cavities | 1 |
| Binocular microlens imaging system based on micro fabrication technology and its application in vein-enhanced display | 1 |
| Dynamic response of ferrofluidic deformable mirrors using elastomer membrane and overdrive techniques | 0 |
| Flatness measurement of large flat with two-station laser trackers | 0 |
SCIE
影响因子 1.5
CiteScore 2.8
SCIE
影响因子 1.5
CiteScore 3.6
SCIE
CiteScore 8.9
SCIE
影响因子 0.5
CiteScore 1.8
SCIE
影响因子 2.2
CiteScore 6.5
SCIE
影响因子 0.4
CiteScore 2.2
SCIE SSCI
影响因子 4.1
CiteScore 7.1
SCIE SSCI
影响因子 0.9
CiteScore 1.5
SCIE SSCI
影响因子 12.5
CiteScore 22.1
SCIE
影响因子 4.5
CiteScore 8.1
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