主管单位:纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》的内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势;半导体制造技术;光刻技术;工艺和器件的扰动和缺陷...
作者
(美)[Sandip] [Kundu]等著
出版社
科学出版社
出版时间
2014-04
开本
16开
包装
平装