Journal Of Vacuum Science & Technology A
人气:1

Journal Of Vacuum Science & Technology A SCISCIE

  • ISSN:0734-2101
  • 出版商:A V S AMER INST PHYSICS
  • 出版语言:English
  • E-ISSN:1520-8559
  • 出版地区:UNITED STATES
  • 是否预警:
  • 创刊时间:1983
  • 出版周期:Bimonthly
  • TOP期刊:
  • 影响因子:2.166
  • 是否OA:未开放
  • CiteScore:4.9
  • H-index:100
  • 研究类文章占比:93.31%
  • Gold OA文章占比:27.37%
  • 文章自引率:0.1777...
  • 开源占比:0.2497
  • OA被引用占比:0.2168...
  • 出版国人文章占比:0.03
  • 出版修正文章占比:0.0102...
  • 国际标准简称:J VAC SCI TECHNOL A
  • 涉及的研究方向:材料科学:膜-工程技术
  • 中文名称:真空科学与技术学报
  • 预计审稿周期:一般,3-6周
国内分区信息:

大类学科:材料科学  中科院分区  2区

国际分区信息:

JCR学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS,PHYSICS, APPLIED  JCR分区  Q3

  • 影响因子:2.166
  • Gold OA文章占比:27.37%
  • OA被引用占比:0.2168...
  • CiteScore:4.9
  • 研究类文章占比:93.31%
  • 开源占比:0.2497
  • 文章自引率:0.1777...
  • 出版国人文章占比:0.03

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Journal Of Vacuum Science & Technology A 期刊简介

Journal Of Vacuum Science & Technology A是材料科学领域的一本权威期刊。由A V S AMER INST PHYSICS出版社出版。该期刊主要发表材料科学领域的原创性研究成果。创刊于1983年,是材料科学领域中具有代表性的学术刊物。该期刊主要刊载材料科学:膜-工程技术及其基础研究的前瞻性、原始性、首创性研究成果、科技成就和进展。该期刊不仅收录了该领域的科技成就和进展,更以其深厚的学术积淀和卓越的审稿标准,确保每篇文章都具备高度的学术价值。此外,该刊同时被SCI,SCIE数据库收录,并被划分为中科院SCI2区期刊,它始终坚持创新,不断专注于发布高度有价值的研究成果,不断推动材料科学领域的进步。

同时,我们注重来稿文章表述的清晰度,以及其与我们的读者群体和研究领域的相关性。为此,我们期待所有投稿的文章能够保持简洁明了、组织有序、表述清晰。该期刊平均审稿速度为平均一般,3-6周。若您对于稿件是否适合该期刊存在疑虑,建议您在提交前主动与期刊主编取得联系,或咨询本站的客服老师。我们的客服老师将根据您的研究内容和方向,为您推荐最为合适的期刊,助力您顺利投稿,实现学术成果的顺利发表。

Journal Of Vacuum Science & Technology A 期刊国内分区信息

中科院分区 2022年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 2区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区
中科院分区 2021年12月基础版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区
中科院分区 2021年12月升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区
中科院分区 2020年12月旧的升级版
大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 2区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 2区 3区

Journal Of Vacuum Science & Technology A 期刊国际分区信息

JCR 分区等级 JCR 学科 分区
Q3 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS Q3
PHYSICS, APPLIED Q2

CiteScore指数

  • CiteScore:4.90
  • SJR:0.550
  • SNIP:0.931
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces and Interfaces Q2 18 / 55

68%

大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q2 139 / 423

67%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films Q2 48 / 131

63%

期刊评价数据趋势图

中科院分区趋势图
期刊影响因子和自引率趋势图

发文统计

年发文量统计
年份 2020 2019 2018 2017 2016 2015
年发文量 293 218 227 232 241 273
综述量 26 8 8 7 2 6
文章量 267 210 219 225 239 267
国家/地区发文量统计
国家/地区 数量
USA 368
Japan 77
GERMANY (FED REP GER) 61
South Korea 56
France 44
Sweden 33
CHINA MAINLAND 31
England 29
Finland 26
Netherlands 26

高引用文章

文章名称 引用次数
Review Article: Stress in thin films and coatings: Current status, challenges, and prospects 72
Status and prospects of plasma-assisted atomic layer deposition 26
Practical guides for x-ray photoelectron spectroscopy: First steps in planning, conducting, and reporting XPS measurements 23
Functional model for analysis of ALD nucleation and quantification of area-selective deposition 19
Review Article: Catalysts design and synthesis via selective atomic layer deposition 16
Paradigm shift in thin-film growth by magnetron sputtering: From gas-ion to metal-ion irradiation of the growing film 14
Review Article: Atomic layer deposition for oxide semiconductor thin film transistors: Advances in research and development 14
Atomic layer deposition of silicon-based dielectrics for semiconductor manufacturing: Current status and future outlook 13
Review Article: Crystal alignment for high performance organic electronics devices 12
Vapor-deposited octadecanethiol masking layer on copper to enable area selective Hf3N4 atomic layer deposition on dielectrics studied by in situ spectroscopic ellipsometry 11

免责声明

若用户需要出版服务,请联系出版商:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。

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